在21世紀的科技浪潮中，中國正以前所未有的速度推進產(chǎn)業(yè)升級，特別是在第三代半導體、航空航天等戰(zhàn)略新興領域，每一步進展都凝聚著國家的意志與民族的智慧。然而，在這場全球科技競賽中，一個細微卻至關重要的環(huán)節(jié)——**研磨拋光材料的自主可

控，成為了制約我國精密器件制造能力的一大瓶頸。正是在這片充滿挑戰(zhàn)與機遇的藍海中，儒佳科技以其深厚的納米級分散與研磨技術積累，挺身而出，成為中國拋光材料國產(chǎn)替代攻堅戰(zhàn)中的一支重要力量。

### 一、直擊痛點：****拋光材料的“微米級”困局

  拋光材料，作為半導體芯片、陶瓷基板等精密器件制造過程中不可或缺的一環(huán)，其性能直接關系到*終產(chǎn)品的良率與使用壽命。粒徑均一性、分散穩(wěn)定性以及雜質控制水平，這三項**技術指標，是衡量拋光材料質量高低的金標準。長期以來，由于技術門檻

高、研發(fā)投入大，我國在這一領域高度依賴進口，不僅成本高昂，更時刻面臨著供應鏈安全的威脅。

儒佳科技深知，要打破這一僵局，必須從源頭做起，實現(xiàn)技術的自主突破。于是，他們聚焦于納米粒徑的**調控與高固含穩(wěn)定分散兩大關鍵技術難題，開啟了創(chuàng)新之旅。

1. **納米粒徑**調控**：在拋光材料中，磨料的粒徑大小直接決定了拋光效率與表面質量。儒佳科技研發(fā)的UM系列立式砂磨機，通過先進的流體力學設計與精密的控制系統(tǒng)，實現(xiàn)了對CeO2、SiO2等常用拋光磨料粒徑的**調控，確保0.1μm級顆粒占比。這

一技術突破，有效避免了粗顆粒對晶圓的劃傷，大幅提升了拋光后的表面光潔度與器件良率。

2. **高固含穩(wěn)定分散**：傳統(tǒng)拋光材料制備過程中，固含量的提升往往伴隨著分散穩(wěn)定性的下降，限制了拋光液的性能發(fā)揮。儒佳科技通過多級砂磨與動態(tài)分離技術的創(chuàng)新結合，成功突破了這一技術瓶頸，實現(xiàn)了高固含量拋光液的穩(wěn)定分散。這不僅提高了拋光

效率，還降低了材料消耗，為客戶帶來了**的經(jīng)濟效益。

### 二、技術賦能：從材料研發(fā)到量產(chǎn)的全周期護航

儒佳科技深知，技術的突破只是第一步，如何將科技成果轉化為生產(chǎn)力，才是決定企業(yè)能否在激烈的市場競爭中脫穎而出的關鍵。因此，他們不僅提供先進的研磨拋光設備，更致力于構建覆蓋拋光材料全生命周期的解決方案，從研發(fā)加速到量產(chǎn)護航，***支

持客戶的創(chuàng)新與發(fā)展。

 **研發(fā)加速器**：為了滿足客戶快速迭代的需求，儒佳科技推出了微型實驗砂磨機，其0.5L的容量非常適合百克級樣品的開發(fā)。同時，結合智能參數(shù)推薦系統(tǒng)，客戶的試錯周期從傳統(tǒng)的3個月大幅縮短至2周，極大地加速了新材料的研發(fā)進程。

 **量產(chǎn)護航**：在量產(chǎn)階段，儒佳科技憑借豐富的行業(yè)經(jīng)驗與強大的技術支持，為客戶提供從工藝優(yōu)化、設備選型到生產(chǎn)線布局的***服務。通過定制化解決方案，確?？蛻裟軌蚋咝А⒎€(wěn)定地生產(chǎn)出滿足市場需求的**拋光材料。

 三、展望未來：攜手共進，共創(chuàng)拋光材料新篇章

隨著全球半導體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)升級與航空航天領域的快速發(fā)展，對拋光材料的需求將更加多元化、**化。儒佳科技深知，面對未來，唯有不斷創(chuàng)新，才能在激烈的國際競爭中立于不敗之地。

2025年4月16日，儒佳科技將攜其*新研發(fā)的高度拋光材料分散研磨設備，亮相于河南鄭州舉辦的**研磨拋光材料技術大會。這不僅是一次技術的展示，更是一次行業(yè)交流的盛會。儒佳科技期待與來自全球的同行、**以及產(chǎn)業(yè)鏈上下游伙伴共聚一堂，共同探

討拋光材料行業(yè)的未來趨勢，分享技術創(chuàng)新成果，攜手推動中國拋光材料產(chǎn)業(yè)邁向新的高度。